2026-10-27
Bubuk pemoles tanah jarang berbasis cerium-oksida dengan kisaran pH 7,0 hingga 8,0 ditentukan untuk optik presisi dan kaca penutup elektronik konsumen. Dokumentasi produk menjelaskan formulasi yang menggabungkan dekomposisi kimia dan abrasi mekanis untuk meningkatkan hasil permukaan dan efisiensi proses. Distribusi ukuran partikel dan perilaku suspensinya disajikan sebagai kontrol utama untuk konsistensi dalam pemolesan presisi tinggi.
Spesifikasi produk mengidentifikasi cerium oksida sebagai bahan inti. Bubuk ini digambarkan menawarkan pemolesan yang lebih cepat dan efisiensi pemrosesan yang lebih tinggi daripada bahan konvensional, dengan konsumsi material yang lebih rendah per unit.
Kombinasi ukuran partikel dan dispersi yang terkontrol dimaksudkan untuk mendukung hasil yang berulang di seluruh siklus produksi sambil membatasi tuntutan pemeliharaan yang terkait dengan penanganan bubur.
Spesifikasi mencantumkan total kandungan oksida tanah jarang di atas 99 persen dan rasio CeO2/TREO 99,9 persen. Kisaran pH adalah 7,0 hingga 8,0, penampilannya putih, dan gravitasi spesifik yang direkomendasikan adalah 1,03 hingga 1,08.
| Item | Spesifikasi |
|---|---|
| TREO (total oksida tanah jarang) | >99% |
| CeO2/TREO | 99,9% |
| Distribusi ukuran partikel (PSD) | D50=1,0–1,4 µm, D99<6 µm |
| pH | 7,0–8,0 |
| Penampilan | Putih |
| Gravitasi spesifik yang direkomendasikan | 1,03–1,08 |
Aplikasi termasuk lensa bola dengan peringkat gerinda 80 hingga 120, prisma, substrat motherboard, dan kaca optik datar. Bubuk ini juga digunakan untuk kaca penutup pada smartphone dan tablet.
Kompatibilitas peralatan dijelaskan mencakup sistem pemolesan datar dan bola, memungkinkan bubuk digunakan di berbagai pengaturan manufaktur optik.
Pengemasan standar adalah drum polietilen 25 kg dan palet 500 kg. Pengemasan khusus dapat ditentukan untuk disesuaikan dengan sistem penyimpanan dan logistik.
Bagaimana cara menyesuaikan gravitasi spesifik yang direkomendasikan sebesar 1,03 hingga 1,08?
Spesifikasi bergantung pada kekerasan kaca, tekanan mesin pemoles, dan kecepatan putaran. Titik awal 1,05 disarankan, diikuti dengan penyesuaian konsentrasi kecil berdasarkan pengukuran kekasaran permukaan untuk mencapai keseimbangan penghilangan yang diperlukan.
Apakah bubuk mudah dibersihkan setelah dipoles?
Formulasi ini mencakup bantuan suspensi yang dioptimalkan yang dimaksudkan untuk mencegah pengendapan yang membandel pada benda kerja. Pembersihan ultrasonik konvensional dapat menghilangkan residu tanpa memengaruhi langkah pelapisan atau inspeksi selanjutnya.
Apa signifikansi spesifikasi D99 di bawah 6 µm?
D99 menggambarkan ujung atas distribusi ukuran partikel. Menjaganya di bawah 6 µm membatasi keberadaan partikel besar yang dapat menyebabkan goresan dalam, mendukung permukaan kilap tinggi dan tingkat cacat rendah.
Kirimkan pertanyaan Anda langsung kepada kami